为单晶硅炉、镀膜设备、化学气相沉积、液晶再生、电子指示器、热处理炉等超高真空系统及对环境要求较高的设备提供优质磁流体密封件。高压磁流体密封件已开发成功。《磁流体密封装置》专利号ZL01238583.2
做外贸,请上全球密封件网
发布您的信息,让客户了解您